曝光一般在曝光机内进行,目前的曝光机依据光源冷却方式可分为风冷和水冷,曝光质量取决于除干膜致抗蚀剂、光源选择、曝光时间、菲林胶片质量等因素。
曝光后的干膜有些需要放置10~15min后才能显影,这必须根据实际情况,根据干膜的要求执行。
利用稀碱溶液与光致抗蚀剂中未曝光部分的活性基团(羧基)反应,生成可溶性的物质溶于水,而曝光部分的干膜不发生溶解。
曝光一般在曝光机内进行,目前的曝光机依据光源冷却方式可分为风冷和水冷,曝光质量取决于除干膜致抗蚀剂、光源选择、曝光时间、菲林胶片质量等因素。
曝光后的干膜有些需要放置10~15min后才能显影,这必须根据实际情况,根据干膜的要求执行。
利用稀碱溶液与光致抗蚀剂中未曝光部分的活性基团(羧基)反应,生成可溶性的物质溶于水,而曝光部分的干膜不发生溶解。